SELFAシリーズ - 高接着易剥離UVテープ
-Challenge- 半導体ウエハのダメージ防止
半導体ウエハの製造では、研磨工程でウエハをしっかり固定する必要があり、固定材をはがすときに高価なウエハにダメージを与えるリスクがあります。
-Solution- 高接着・易剥離のUV剥離テープ
「SELFA」とは高い接着性と剥離しやすさを両立させたUV剥離テープです。
UV照射によりテープと被着体間にガスが発生し、密着力をゼロにして簡単に剥がすことが出来、薄く研磨されたウェハ等でもダメージ無く加工することが可能になります。
耐熱性に優れた片面「SELFA HS」、耐熱テンポラリーボンディング材の「SELFAHW」、耐薬品性に優れた「SELFA MP」など幅広いラインナップから最適な品番を提案させて頂きます。
-Technology- 技術情報
技術概要
高耐熱
220℃×2時間の耐熱性を担保
低残渣性にも優れている
リフロー、アニール、スパッタリング等の工程で使用実績あり
耐薬品性
多種多様な薬剤に対する適応性あり
無電解メッキ、粗化処理、レジスト露光/現像、 薬液洗浄等
ガス剥離
積水の独自技術である“ガス剥離”は
被着体からの易剥離性を実現
ガラスやウエハ等のセンシティブな
被着体からの剥離実績あり
取り扱い性良し
テープタイプのため、他社仮固定材と
比較してハンドリング性良好。
加えて品質や価格面でもメリット多数
技術詳細
高耐熱220℃×2時間、260℃×5分の耐熱性を有し、更なる耐熱性向上を目指している。
高温処理時でも、残渣なし
耐薬品性あらゆる薬剤に対する適応性
アイテム | 溶剤 | 温度(℃) | 処理時間 (秒) | 重量減 (wt%) |
---|---|---|---|---|
1 | テトラヒドロフルフリルアルコール 75-100% | 60 | 420 | ≤1 |
2 | NMP | 50 | 3000 | ≤1 |
3 | KOH 1% | 25 | 90 | ≤1 |
4 | CuSO4 18% | 4200 | ≤1 | |
5 | H2SO4 5-10% | 4200 | ≤1 | |
6 | HCI 6% | 4200 | ≤1 | |
7 | 酢酸 10% | 60 | ≤1 | |
8 | HF 0.5% | 900 | ≤1 | |
9 | NH4OH 30% | 900 | ≤1 | |
10 | PGME | 900 | ≤1 | |
11 | PGMEA | 900 | ≤1 | |
12 | TMAH 2.38% | 7200 | ≤1 | |
13 | IPA | 900 | ≤1 | |
14 | C6H8O7 5% | 900 | ≤1 | |
15 | H2O2 30% | 900 | ≤1 | |
16 | KOH 5% | 900 | ≤1 | |
17 | DMSO | 900 | ≤1 |
ガス剥離 ガス剥離により、被着体に優しく易剥離が可能
UV反応挙動
UV reaction of SELFA取り扱い性良し
- ・特殊な表面形状の被着体にも対応可能
(e.g. MEMS, ubump, Taiko™ wafer, etc.) - ・簡易なプロセス制御により
良好なTTV性能を実現 - ・製造プロセスがシンプルなため、
他の仮固定材技術に比べて、
コストパフォーマンスが高い
(e.g. laser debond).
Wafer TTV after BG
Mapping | |
---|---|
Histogram | |
THK | 24.9 um |
TTV | 2.8 um |